物理氣相沉積 (PVD) 是一種通過生產(chǎn)金屬基礎(chǔ)的硬質(zhì)涂層的方法，借助于與某些氣體發(fā)生反應(yīng)，并通過在基材上形成具有特定成分的薄膜來生產(chǎn)金屬基的硬質(zhì)涂層的方法。PVD涂層技術(shù)最常用的方法是濺射和陰極電弧。在濺射中，蒸氣是由金屬靶受高能氣體離子轟擊形成的。陰極電弧方法使用重復(fù)的真空電弧放電來撞擊金屬目標(biāo)，使靶材蒸發(fā)。
所有 PVD 涂層技術(shù)均在高真空條件下進(jìn)行。普科 PVD 鍍膜工藝用于在各種工具和部件上沉積由 Ti、Cr、Zr 和 AlCr、AlTi、TiSi 等合金的氮化物、碳化物和碳氮化物制成的涂層。應(yīng)用包括切割和成型工具、機(jī)械部件、醫(yī)療設(shè)備和受益于涂層堅(jiān)硬和裝飾特性的產(chǎn)品。PVD 涂層的工藝溫度一般在 250 至 450 °C 之間。
在某些情況下，寅溢納米科技 PVD 涂層可以在低于 70 °C 或高達(dá) 600 °C 的溫度下沉積，溫度具體取決于基材材料和應(yīng)用中的實(shí)際需求。
PVD涂層可以沉積為單層、多層和漸變層。寅溢納米硬質(zhì)涂層是多層涂層的納米結(jié)構(gòu)和超晶格變體，可提供增強(qiáng)性能的效果。可以調(diào)整涂層結(jié)構(gòu)以產(chǎn)生所需的硬度、附著力、摩擦等特性。最終的涂層選擇由應(yīng)用需求決定。涂層厚度范圍為 2 至 5 μm，但可以薄至幾百納米或厚至 15 μm 或更多。基材材料可包括鋼、有色金屬、碳化鎢以及塑料等。PVD 涂層基材的適用性僅受其在沉積溫度下的穩(wěn)定性和電導(dǎo)率的限制。